抗辐照非易失 FPGA 与工艺技术发展趋势研究
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刊名 《科技研究》
作者 王印权 (江苏省无锡市 中国电子科技集团公司第五十八研究所 214000) 英文名 年,卷(期) 2025年,第10期
主办单位 华文科学出版社 刊号 ISSN:3079-9244(原2717-5480) DOI 10.12421/kjyj3079-9244-202510051

抗辐照非易失 FPGA 与工艺技术发展趋势研究

本文聚焦抗辐照非易失 FPGA 及其工艺技术,深入剖析其发展现状。通过对现有技术的梳理与分析,探讨了抗辐 照非易失 FPGA 在不同应用场景中的性能表现。同时,结合行业动态与科研进展,研究其未来发展趋势,为相关领域的技术 创新与产业发展提供参考。

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